硅片清洗水處理
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微(wei)量污(wu)(wu)染(ran)也會導致器件失效。清洗的(de)目的(de)在(zai)(zai)于清除表(biao)面污(wu)(wu)染(ran)雜質,包括(kuo)有機(ji)物(wu)和無(wu)機(ji)物(wu)。這些雜質有的(de)以原(yuan)子狀(zhuang)態或離子狀(zhuang)態,有的(de)以薄膜(mo)形式或顆粒形式存在(zai)(zai)于硅(gui)(gui)片表(biao)面。有機(ji)污(wu)(wu)染(ran)包括(kuo)光(guang)刻(ke)膠、有機(ji)溶劑殘留(liu)物(wu)、合成(cheng)蠟和人接觸器件、工具、器皿(min)帶來的(de)油脂或纖(xian)維(wei)。無(wu)機(ji)污(wu)(wu)染(ran)包括(kuo)重金(jin)屬(shu)(shu)金(jin)、銅、鐵、鉻等(deng),嚴(yan)(yan)重影響少數載流子壽命和表(biao)面電導;堿金(jin)屬(shu)(shu)如鈉等(deng),引起嚴(yan)(yan)重漏(lou)電;顆粒污(wu)(wu)染(ran)包括(kuo)硅(gui)(gui)渣、塵埃、細菌(jun)、微(wei)生物(wu)、有機(ji)膠體纖(xian)維(wei)等(deng),會導致各種缺陷(xian)。
1、主要(yao)零部件均(jun)采用世界名牌産品(pin),經CAD設計(ji),技術先進,性(xing)能(neng)(neng)可靠、産水性(xing)能(neng)(neng)優良。
2、前置預(yu)處理保(bao)護裝(zhuang)置,確保(bao)高壓泵及反滲透膜不受硬物(wu)損壞。
3、脫鹽(yan)率高,運行壓力低(di)的(de)卷式復合膜提高了(le)系統效率,并除低(di)了(le)運行成本。
4、産品濃縮(suo)水(shui)各(ge)設有流(liu)量計,以監視并調節運行出水(shui)量及系統回收率。
5、在線電導(dao)儀表連續監測(ce)産品水質(zhi),帶(dai)有設定值(zhi)和報警。
6、進水及排水系統(tong)壓(ya)力表監測反滲透(tou)壓(ya)差,提(ti)示清洗時間,全面的(de)系統(tong)監視,自動(dong)的(de)儀表顯示。
7、靈敏的(de)(de)高壓、低壓開關;防止(zhi)在異(yi)常狀況下(xia)對設備的(de)(de)損壞,確保(bao)系統(tong)的(de)(de)正常運(yun)轉。
8、硅(gui)材料清洗用超純水處理設備采用先(xian)進的(de)膜(mo)保護系統定時沖洗膜(mo)表面,降低污(wu)染速度,延長膜(mo)使用壽命。